南大光电（300346）

袁磊（YUANLEI），1974年出生，美国国籍，毕业于加州大学伯克利分校机械工程系，博士学位。历任PDF Solutions半导体制程良率工程师，特许半导体（Chartered Semiconductor Inc.）资深光刻工程师，IBM半导体技术开发联盟（ISDA）资深光刻工程师。2010年至2017年任格罗方德半导体（Global Foundries Inc.）资深研发工程师、研发经理，2017年至2021年任苹果公司（AppleInc.）资深OLED研发工程师。拥有二十年半导体光刻和工艺研发及生产经验，领导参与了多个先进技术节点研发；在先进光刻技术，以三维半导体器件（FinFET）和多重成像为代表的先进电路设计方法，电路设计和制造协同优化（Design-Technology Co-Optimization）领域居国际领先水平，拥有40余项国际专利。